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CVDシミュレーション
CVD(Chemical vapor deposition)
化学気相成長をシミュレーションした図である
ガスの成分：
90Ar-0.1WCl4-0.1SiH2Cl2-H2(mol%)
温度：1000 K、圧力：1 atm
計算にはSSUB6データベースを使用
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